龙口靖诚(图),不锈钢化学镀镍工艺,不锈钢化学镀镍
计算机薄膜硬磁盘化学镀镍是高技术化学镀镍的典型代表，专业不锈钢化学镀镍，占有相当重要的市场份额。 化学镀镍技术在微电子器件制造业中应用的增长十分迅速。据报导施乐公司在超大规模集成电路多层芯片的互连和导通孔（via-hole）的充填整平化工艺中，不锈钢化学镀镍，采用了选择性的镍磷合金化学镀技术；其产品均通过了抗剪切强度、抗拉强度、高低温循环和各项电性能的试验。实践说明，不锈钢化学镀镍加工，化学镀镍技术的应用提高了微电子器件制造工艺的技术经济性和产品的可靠性。
化学镀镍是计算机薄膜硬磁盘制造中的关键步骤之一。主要是在经过精细加工的5086镁铝表面镀12.5um厚的镍磷合金层，为后续的真空溅射磁记录薄膜做预备。化学镀镍层含磷量为12%wt（原子百分比约20.5%）。镀层必须是低应力且为压应力。经250℃或300℃加热1h，不锈钢化学镀镍工艺，此时仍保持非磁性，即剩磁小于0.1×10－4T。镀层必须均匀、光滑，表面上的任何缺陷和突起不得超过0.025um。因为技术要求高所以必须使用高质量高清洁度的专用化学镀液、全自动的施镀控制设备和高清洁度的车间环境。
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